ASML申请具有流体处理结构的光刻装置专利，可根据运动类型改变流体处理结构与衬底或衬底支撑件的间隔距离

国家知识产权局信息显示，ASML荷兰有限公司申请一项名为“具有流体处理结构的光刻装置”的专利，公开号CN121039571A，申请日期为2024年3月。

专利摘要显示，本文中公开了一种光刻装置，该光刻装置包括与衬底和/或衬底支撑件间隔开间隔距离的流体处理结构；被配置为移动衬底支撑件并且由此移动衬底的定位设备；以及控制系统，该控制系统被配置为控制定位设备，使得衬底支撑件沿着包括一个或多个准备运动和一个或多个扫描运动的路线移动；其中：控制系统还被配置为控制流体处理结构和/或衬底支撑件的位置，以便根据正在执行的是准备运动还是扫描运动来改变间隔距离；每个准备运动用于将衬底移动到能够开始新扫描运动的位置；并且每个扫描运动用于在一个或多个曝光过程中移动和/或定位衬底。

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来源：市场资讯