唐晶量子申请VCSEL外延片厚度均匀性检测方法专利，解决现有技术对VCSEL外延片厚度与良率关联归因能力缺失的问题

国家知识产权局信息显示，西安唐晶量子科技有限公司申请一项名为“一种VCSEL外延片厚度均匀性检测方法”的专利，公开号CN121033056A，申请日期为2025年10月。专利摘要显示，本发明属于图像处理技术领域，具体涉及一种VCSEL外延片厚度均匀性检测方法，其方法包括：获取VCSEL外延片进行空间对齐后的厚度图谱和良率图谱；得到厚度图谱中每个位置的全局背景厚度；计算各位置的邻域内厚度偏差的波动标准差；获取邻域异常分数、邻域失效率、获得邻域基准参数；根据各位置的邻域异常分数与邻域失效率的乘积、邻域基准参数以及皮尔逊相关系数三者间的相对偏离与相关性加权关系，计算得到问题归因风险指数；根据问题归因风险指数推断异常模式类型、生成归因报告。本发明解决了现有技术对VCSEL外延片厚度与良率关联归因能力缺失的问题。

天眼查资料显示，西安唐晶量子科技有限公司，成立于2017年，位于西安市，是一家以从事化学原料和化学制品制造业为主的企业。企业注册资本3896.4713万人民币。通过天眼查大数据分析，西安唐晶量子科技有限公司参与招投标项目6次，财产线索方面有商标信息8条，专利信息11条，此外企业还拥有行政许可17个。

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来源：市场资讯